كشفت وكالة "رويترز" عن تمكن علماء صينيين من بناء نموذج أولي لآلة قادرة على إنتاج رقائق أشباه موصلات متقدمة، في خطوة تمثل اختراقاً للتكنولوجيا التي سعت واشنطن لسنوات للاحتكار فيها.
وتعتبر هذه الرقائق أساسية لتشغيل تقنيات الذكاء الاصطناعي، الهواتف الذكية، وأنظمة الأسلحة التي تشكل العمود الفقري للهيمنة العسكرية الغربية.
وبحسب مصدرين مطلعين، اكتمل النموذج الأولي في أوائل 2025، ويخضع حالياً للاختبارات، حيث يشغل مساحة تقريباً كاملة لمصنع. وقد طوره فريق من مهندسين سابقين بشركة ASML الهولندية، بعد إجراء هندسة عكسية لآلات الطباعة الحجرية بالأشعة فوق البنفسجية القصوى (EUV) التي تنتجها الشركة.
وأشار المصدران إلى أن الآلة نجحت في توليد الضوء فوق البنفسجي الشديد، لكنها لم تنتج بعد رقائق عاملة. في أبريل الماضي، صرح الرئيس التنفيذي لشركة ASML، كريستوف فوكِه، أن تطوير مثل هذه التكنولوجيا في الصين قد يستغرق "سنوات طويلة"، إلا أن النموذج الأولي يشير إلى أن بكين قد تكون أقرب لتحقيق الاستقلال في مجال أشباه الموصلات مما كان متوقعاً.
ورغم هذا التقدم، تواجه الصين تحديات تقنية كبيرة، خصوصاً في محاكاة أنظمة البصريات الدقيقة التي يصنعها الموردون الغربيون. وقد أتاح توفر قطع من آلات ASML الأقدم في الأسواق الثانوية للصين بناء النموذج المحلي، مع خطة حكومية لإنتاج رقائق عاملة بحلول 2028، بينما يرى بعض الخبراء أن عام 2030 أكثر واقعية.
ويعد هذا الإنجاز تتويجاً لمبادرة حكومية استمرت ست سنوات لتحقيق الاكتفاء الذاتي في أشباه الموصلات، وهي أحد أولويات الرئيس الصيني شي جين بينغ. وقد جرى تطوير مشروع EUV بسرية تامة في مختبر محصن في مدينة شينزين.
ويأتي المشروع ضمن الاستراتيجية الوطنية لأشباه الموصلات، التي تُدار بإشراف دينغ شيويه شيانغ، المقرب من شي جين بينغ ورئيس لجنة العلوم والتكنولوجيا المركزية للحزب الشيوعي. كما تلعب شركة هواوي دوراً محورياً في تنسيق شبكة واسعة من الشركات ومعاهد الأبحاث الحكومية التي تضم آلاف المهندسين.
